【EEPW 电子产品世界 讯】在全球半导体制造竞争日趋激烈之际，英特尔公司近日宣布已成功将ASML最新一代高数值孔径（High-NA）极紫外（EUV）光刻 ...

众所周知，光刻技术是现代半导体制造的核心，直接决定了芯片的性能、尺寸和成本。在这场技术竞赛中，荷兰的ASML凭借其极紫外光（EUV）光刻技术占据了无可争议的霸主地位。不过，近日，国内外媒体及网络接连曝出佳能通过纳米压印光刻（NIL）以及中国通过激光驱 ...

快科技2月25日消息，Intel宣布，ASML首批两台高数值孔径（High-NA EUV）极紫光刻机已经在其工厂投入生产。初步数据显示，其效率、可靠性比上一代EUV ...

IT之家 3月12日消息，韩媒FNnews昨日（3月11日）发布博文，报道称三星电子本月初在其华城园区引入了ASML生产的 High NA 极紫外光刻（EUV）设备 ...