光刻机作为芯片生产的关键设备，被视为国家战略重器之一。它分为EUV和DUV两种类型。EUV光刻机的制造技术要求尤为严格，这属于我国技术领域的短板。 近年来，我国科研院所和高校持续开展科技攻关，逐步攻克制造技术领域的难题。 EUV光刻机技术难度高 ...

[导读]1月6日消息，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室(LLNL)正在研究一种效率比传统CO2 EUV激光器高10倍的激光器，这将为下一代EUV光刻技术发展奠定基础。 1月6日消息，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室(LLNL)正在研究一种效率比传统CO2 EUV激光器高10倍的激光器 ...

快科技1月6日消息，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）正在研究一种效率比传统CO2 EUV激光器高10倍的激光器，这将为下一代EUV光刻技术发展奠定 ...

而光刻机，作为芯片制造中的核心设备，更是被誉为“芯片制造皇冠上的明珠”。其中，EUV（极紫外光）光刻机更是以其高精度、高效率的特点，成为制造先进制程芯片的关键设备。然而，EUV光刻机的制造难度极大，长期以来一直是全球科技界的一大挑战。

NIL 系统提供的优势可能会挑战价值 1.5 亿美元的机器，这些机器在当今先进的芯片制造中占据主导地位，即极紫外 （EUV） 光刻扫描仪。如果佳能是 ...

制造尖端芯片不可或缺的EUV（极紫外）光刻设备即将登陆日本。日本Rapidus（位于东京千代田区）将于2024年内在千岁工厂(北海道千岁市)引进，这将是日本国内首次引进。将由世界上唯一制造EUV光刻设备的荷兰阿斯麦(ASML)提供。 以Rapidus为开端，日本的 ...