来自中国科学院的一项最新研究成功开发出可发射193纳米波长光的固态深紫外（DUV）激光器，这一波段是先进芯片光刻的关键技术。目前，商用光刻系统普遍采用氟化氩（ArF）准分子激光器作为光源，存在体积大、系统复杂和运维成本高等问题。

Extropic 现已与《连线》杂志分享了更多有关其概率硬件的细节，以及表明其有望在许多数据中心构建出一种替代传统硅片的产品的结果。该公司的目标是提供一种比当今硬件效率高出三到四个数量级的芯片，这一壮举将大大减少未来的排放量。